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半導體光刻工藝流程示意圖
來源:江蘇沃澤光電科技有限公司 | 作者:江蘇沃澤光電科技有限公司 | 發布時間: 2020-08-14 | 1338 次瀏覽 | 分享到:
半導體光刻工藝流程示意圖




半導體光刻工藝三種曝光方式
紫外線光源一般是利用紫外光（波長365nm、436nm）和遠紫外光（193nm、248nm）的波段，常見曝光方式有接觸式、接近式和投影式三種，如下圖：


不同曝光方式的優劣勢對比



主流平行曝光方式及系統示意圖


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